| {本文由家电维修技术论坛小编收集整理资料}光学薄膜的应用十分广泛，从精密的光学仪器到光纤通讯、显示器、数码相机，乃至钞票上的防伪技术，均不乏其身影。一般而言，光学薄膜是指在光学玻璃、光纤、晶体等各种材料的表面上镀制一层或多层薄膜，并利用薄膜内光的干涉效应来改变透射光或反射光的强度、偏振状态和相位变化的光学元件；而制备的过程则称为“光学镀膜”，且工艺众多，例如物理气相沉积法（PVD）、离子束辅助沉积法、溶胶-凝胶法等。 不过，随着光电系统微缩化、基底材料多元化以及各类行业应用的创新迭代，以PVD为代表的传统薄膜制备方法在膜层厚度控制、致密性、保形性等方面逐渐显现其不足，而原子层沉积技术（ALD）无论对于纳米结构的微观层面或任意形态光学器件的宏观层面，均可以原子级精度调整光学材料的特性，成为了当下光学镀膜解决方案的“香饽饽”。 近日，业界领先的ALD设备制造商和服务商——思锐智能携旗下Beneq品牌重磅亮相第23届中国国际光电博览会（以下简称CIOE2021），并分享ALD设备的主流产品以及在光学领域的众多创新解决方案。谈及ALD技术在该领域的应用前景时，思锐智能总经理聂翔表示：“无论从前端模组到后端器件的光学镀膜应用，思锐智能以先进的ALD技术提供了一站式的解决方案，能够满足客户从研发、中试线到工业化量产的全方位镀膜需求。”  图1：SRII旗下品牌BENEQ亮相光博会，展示光学领域的ALD创新应用  图2：思锐智能总经理聂翔在展会现场接受央视媒体采访 加速“ALD光学镀膜”扩产步伐，SRII产学研布局促进行业发展 众所周知，稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能的要求，典型光学薄膜的膜层厚度均匀性要求在1%左右。以大直径球型光学透镜的镀膜为例，思锐智能副总经理陈祥龙指出：“通过使用Beneq P400A ALD设备在球型透镜表面镀膜的测试，在批量生产中，经过全方位角度测量，所有镀膜样品的薄膜不均匀性仅为1.2%，这在业界属于非常领先的一项基准。”与此同时，SRII面向光学领域持续拓展生态合作版图——SRII携手浙江大学光学与光电子薄膜研究所正式签订战略合作协议，基于公司P400A系列设备共建联合实验室，用于技术开发和应用创新，促进产学研合作、助力国内半导体和先进光学等相关行业的高速发展。  图3：思锐智能 ALD光学镀膜解决方案引起业界人士围观 实际上，Beneq P系列设备是专为工业规模生产设计的原子层沉积系统，包括P400A、P800以及最新的P1500等多个型号，均搭载高容量反应器，克服了同类ALD设备的沉积速率慢、不兼容大尺寸产品、难以大规模生产等局限，是从研发阶段到大规模工业化生产的理想工具，可用于光学镀膜、半导体设备零部件镀膜、以及OLED和电子器件的防潮镀膜等当下前沿的应用市场。此外，P系列设备还支持定制反应腔的配置选项，适用于各种基底；而且反应腔易于更换，从而最大限度减少了因维护造成的停机时间。  图4：SRII展示旗下Beneq品牌P800 ALD设备模型 除了P系列工业量产型ALD设备，新一代空间ALD设备同样获得了业界人士的广泛关注。据悉，Beneq C2R设备属于“第一个吃螃蟹者”，首次将旋转等离子体增强型ALD（PEALD）工艺应用于大批量生产并获得成功，是超快速提升产能的ALD镀膜解决方案。由于Beneq C2R设备采用了旋转PEALD工艺，其沉积的薄膜厚度可达到每小时几微米。因此，在选择高沉积速率、低成本、低工艺温度及最佳薄膜质量的ALD设备时，Beneq C2R是理想之选。 拓展ALD创新边界，Transform系列接棒激光雷达等微纳光学系统镀膜应用 为了应对光电系统微缩化以及结构复杂化的发展趋势，ALD镀膜技术也在持续改进与优化，从而适应市场要求。以当下热门的激光雷达（Lidar）为例，尽管Lidar系统有不同类型的结构，但是关键的组成部件如激光器和二极管、光学元件、基于固态Lidar的波控、光电探测器以及信号处理单元等在其制备过程中都不可避免地需要ALD镀膜工艺。  图5：Lidar系统的VCSEL器件需要复杂的镀膜工艺以实现功能完整性 对此，陈祥龙表示：“先进的ALD镀膜技术能够最大程度地提高器件的光电性能和可靠性指标。Beneq Transform系列十分适用于Lidar等微纳级别的光电系统，其优异的ALD镀膜工艺在微观层面上仍可维持超高保形性、薄膜致密性、膜厚精确控制等众多优点。我们致力于把ALD技术推向一个新高度，打破对ALD生长速度慢的固定思维，通过开发P系列、C2R系列、Transform系列以及即将推出的GENESIS系列等丰富的产品线，进一步推动ALD技术进入更多产业化的应用场景！” 推荐阅读： 贸泽与Amphenol联手发布新电子书，探讨IIoT所需的互连元件、传感器和天线 Digi-Key获评METZ CONNECT 2020年度分销商大奖 贸泽电子提供Renesas和Dialog联手打造的解决方案 贸泽电子新品推荐：2021年8月新增超20000个物料 贸泽与TI和Phoenix Contact联手推出单对以太网技术页面 上一篇：贸泽与Amphenol联手发布新电子书，探讨IIoT所需的互连元件、传感器和天线 下一篇：新一代低功耗主动降噪方案问世，ADI本土团队自主研发撬动TWS耳机市场发展新引擎 特别推荐 MP5493：电表PMIC界新来的“五好学生”氮化镓器件在D类音频功放中的应用及优势如何通过使用外部电路扩展低边电流检测并提高DRV8952的检测精度SiC MOSFET的设计挑战——如何平衡性能与可靠性集成式光学接收器如何满足床旁检测仪器的未来需求 技术文章更多>> “解剖”便携式医疗设备，看看里面都有啥？ 如何满足各种环境下汽车USB充电端口要求？ 电感饱和与开关电源之间的密切关系，这篇文章讲透了！（下） 使用 UWB 技术的卓越汽车 中科融合刘欣：从MEMS微振镜芯片入手，全栈式解决3D机器视觉挑战       Copyright© www.jdwx.cn 深圳市中电网络技术有限公司版权所有 家 电 电器维修 维修 电器修下载电源网电子发烧友网中电网中国工业电器网连接器矿山设备网工博士智慧农业工业路由器天工网乾坤芯电子元器件采购网亚马逊KOL聚合物锂电池工业自动化设备企业查询连接器塑料机械网农业机械中国IT产经新闻网高低温试验箱 function adsC(banner_id) { $.ajax({ type:"get", url:"http://www.jdwx.cn/ads/cntads", dataType:'jsonp', data:"banner_id="+banner_id, jsonp:'callback', success: function(info){} });} 关闭 关闭 $(".ads-gq .close").click(function(){ $(".ads-gq").fadeOut(); });var _hmt = _hmt || [];(function() { var hm = document.createElement("script"); hm.src = "https://hm.baidu.com/hm.js?a37b63bc47570829c94fe5476364f084"; var s = document.getElementsByTagName("script")[0]; s.parentNode.insertBefore(hm, s);})(); |
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