"晶体三极管,是半导体基本元器件之一,具有电流放大作用,是电子电路的核心元件" 在电子元件家族中,三极管属于半导体主动元件中的分立元件。 广义上,三极管有多种,常见如下图所示。 狭义上,三极管指双极型三极管,是最基础最通用的三极管。 本文所述的是狭义三极管,它有很多别称: 三极管的发明
晶体三极管出现之前是真空电子三极管在电子电路中以放大、开关功能控制电流。 真空电子管存在笨重、耗能、反应慢等缺点。 二战时,军事上急切需要一种稳定可靠、快速灵敏的电信号放大元件,研究成果在二战结束后获得。 早期,由于锗晶体较易获得,主要研制应用的是锗晶体三极管。硅晶体出现后,由于硅管生产工艺很高效,锗管逐渐被淘汰。 经半个世纪的发展,三极管种类繁多,形貌各异。 小功率三极管一般为塑料包封; 大功率三极管一般为金属铁壳包封。
三极管核心结构
核心是“PN”结 是两个背对背的PN结 可以是NPN组合,也或以是PNP组合 由于硅NPN型是当下三极管的主流,以下内容主要以硅NPN型三极管为例!
NPN型三极管结构示意图 硅NPN型三极管的制造流程
管芯结构切面图 工艺结构特点: 发射区高掺杂:为了便于发射结发射电子,发射区半导体掺浓度高于基区的掺杂浓度,且发射结的面积较小; 基区尺度很薄:3~30μm,掺杂浓度低; 集电结面积大:集电区与发射区为同一性质的掺杂半导体,但集电区的掺杂浓度要低,面积要大,便于收集电子。
三极管不是两个PN结的间单拼凑,两个二极管是组成不了一个三极管的! 工艺结构在半导体产业相当重要,PN结不同材料成份、尺寸、排布、掺杂浓度和几何结构,能制成各样各样的元件,包括IC。
三极管电路符号 三极管电流控制原理示意图 三极管基本电路 外加电压使发射结正向偏置,集电结反向偏置。 集/基/射电流关系: IE = IB + IC IC = β * IB 假如 IB = 0, 那么 IE = IC = 0 三极管特性曲线 输入特性曲线 集-射极电压UCE为某特定值时,基极电流IB与基-射电压UBE的关系曲线。 UBER是三极管启动的临界电压,它会受集射极电压大小的影响,正常工作时,NPN硅管启动电压约为0.6V; UBE<UBER时,三极管高绝缘,UBE>UBER时,三极管才会启动;
UCE增大,特性曲线右移,但当UCE>1.0V后,特性曲线几乎不再移动。
输出特性曲线 基极电流IB一定时,集极IC与集-射电压UCE之间的关系曲线,是一组曲线。 当IB=0时, IC→0 ,称为三极管处于截止状态,相当于开关断开; 当IB>0时, IB轻微的变化,会在IC上以几十甚至百多倍放大表现出来; 当IB很大时,IC变得很大,不能继续随IB的增大而增大,三极管失去放大功能,表现为开关导通。
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